Includes bibliographical references.

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""Front cover ""; ""Titelseite ""; ""Impressum ""; ""Zusammenfassung""; ""Inhaltsverzeichnis""; ""Motivation und Zielsetzung""; ""Motivation""; ""Zielsetzung""; ""Strukturierung der Arbeit""; ""Optische und mechanische Eigenschaften von DäA?nnschichtsystemen""; ""Licht als elektromagnetische Welle""; ""Verhalten an idealer GrenzfläA?che""; ""Fresnelsche Gleichungen""; ""Eigenschaften däA?nner Schichten""; ""Interferenz""; ""Eigenschaften von DäA?nnschichtstapeln""; ""Transfer-Matrix-Methode""; ""Periodische Vielschichtsysteme""; ""Grundlagen zum Fabry-PäAÃrot-Interferometer""

""KenngräA¶äAèYen des Fabry-PäAÃrot-Interferometers""""Mechanische Eigenschaften däA?nner Schichten""; ""Bestimmung der Schichtverspannung""; ""Multischichtsysteme""; ""Freistehende Strukturen""; ""Mikromechanische Strukturen""; ""Optische Filter""; ""Absorptions- und Interferenzfilter""; ""Filterklassen""; ""Verwendete Herstellungs- und Charakterisierungstechnologien""; ""PlasmaunterstäA?tzte chemische Gasphasenabscheidung""; ""Funktionsprinzip""; ""Plasmalab 80 Plus""; ""Polymertechnologie""; ""Fotolithographie""; ""äA?tzverfahren""; ""Nasschemisches äA?tzverfahren""; ""TrockenäA?tzverfahren""

""WeiäAèYlichtinterferometrie""""Rasterelektronenmikroskopie""; ""Optischer Messplatz""; ""Stand der Forschung zum Thema miniaturisierte Spektrometer""; ""Gitterbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Interferometerbasierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Filterfeld-basierte miniaturisierte Spektrometer""; ""Entwicklung des stressreduzierten Filterdesigns""; ""Basis und Filterstruktur""; ""Referenz-Design""; ""Geometrie der Filterstrukturen""; ""Standard-Design""; ""Prozessparameter der Si3N4-Schichten""; ""Adaption der oberen Elektrode""; ""Stressreduziertes Design""; ""Konzept""

""Carrier-Layer""""Prozessablauf beim stressreduzierten Design""; ""Top-Elektroden-Maske""; ""Lichtschutzschicht""; ""Spektralanalyse und Aktuation""; ""Diskussion""; ""Anpassung des UnteräA?tzprozesses mit Implementierung einer Schutzschicht""; ""Ansatz und Methodik""; ""ProzessfäA?hrung""; ""Methodik""; ""Verwendung der Fotolacke AZ1518 und AZ4562 als Schutzschicht""; ""SiO2 als Schutzschicht-Material""; ""Diskussion""; ""Erweiterung des Filtersystems zur Nutzung eines breiten Spektralbereichs""; ""Prozessablauf""; ""Bottom-Schichtsystem""; ""Top-Schichtsystem""; ""Filter-Strukturierung""

""SchichthomogenitäA?t bei vorstrukturierten OberfläA?chen""""Strukturanalyse""; ""Diskussion""; ""Integration eines optischen Filters zur Adaption an spezifische Anwendungen""; ""Kombination aus Langpass- und Kurzpassfiltern""; ""Filterkombination""; ""Diskussion""; ""State-of-the-art-Filter zur Erweiterung des konfokalen Messaufbaus""; ""Breitband-Filterdesign""; ""Luftspaltfilter""; ""Filterstack""; ""Reflexions-Kaltlichtspiegel""; ""Diskussion""; ""Zusammenfassung""; ""Ausblick""; ""Anhang""; ""Prozesse""; ""Depositionsparameter Siliziumnitrid""; ""Depositionsparameter Siliziumdioxid""

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